[实用新型]掩膜框架、掩膜组件及蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 201820068275.2 申请日: 2018-01-16
公开(公告)号: CN207780479U 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 张新建;张健;李冬伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G03F1/64 分类号: G03F1/64
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供了一种掩膜框架,属于显示技术领域。所述掩膜框架具有用于承载掩膜板的承载面,掩膜框架围成的区域为目标区域,承载面包括用于与掩膜板焊接的第一区域,以及与第一区域不同的第二区域,第二区域的承载面向所述目标区域倾斜。本实用新型解决了掩膜组件中掩膜框架对掩膜板的压力较大,导致掩膜板上较容易出现压痕的问题。本实用新型用于制造掩膜框架。
搜索关键词: 掩膜 掩膜板 本实用新型 第二区域 第一区域 目标区域 掩膜组件 承载面 承载 蒸镀装置 压痕 焊接 制造
【主权项】:
1.一种掩膜框架,其特征在于,所述掩膜框架具有用于承载掩膜板的承载面,所述掩膜框架围成的区域为目标区域,所述承载面包括用于与所述掩膜板焊接的第一区域,以及与所述第一区域不同的第二区域,所述第二区域的所述承载面向所述目标区域倾斜。
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