[实用新型]一种高压晶体生长设备上的正压恒压闭环控制系统有效
| 申请号： | 201820095766.6 | 申请日： | 2018-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN207833352U | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 刘洋 | 申请（专利权）人： | 青岛精诚华旗微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G05D16/20 | 分类号： | G05D16/20;B01J3/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种高压晶体生长设备上的正压恒压闭环控制系统，包括反应腔，正压恒压闭环控制系统，加热系统，工控系统，其特征在于：所述正压恒压闭环控制系统包括供气系统和进、出气管路；所述反应腔内部设置有加热系统；所述工控系统与正压恒压闭环控制系统，加热系统连接进行压力和温度的控制。本实用新型设计合理，使得反应腔和进气管路、出气管路内的气体压力变得稳定可控；同时，增加不同温度段环境下压力设定范围值，避免充气阀和泄压阀频繁开启，保证了在不同温度环境下反应腔内需要的气体压力更加恒定，提高了制品高压晶体生长环境的稳定性，物料产成品合格率更高，同时降低了生产成本，实用性强，适于推广。 | ||
| 搜索关键词： | 闭环控制系统 恒压 正压 高压晶体生长 加热系统 反应腔 本实用新型 出气管路 工控系统 气体压力 恒定 供气系统 进气管路 内部设置 温度环境 下反应腔 充气阀 温度段 下压力 泄压阀 可控 生产成本 合格率 保证 | ||
【主权项】：
1.一种高压晶体生长设备上的正压恒压闭环控制系统，与化合物晶体生长设备相对应，所述高压晶体生长设备上包括反应腔，正压恒压闭环控制系统，加热系统，工控系统，其特征在于：所述正压恒压闭环控制系统包括供气系统和进、出气管路；所述反应腔内部设置有加热系统；所述工控系统与正压恒压闭环控制系统，加热系统连接进行压力和温度的控制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛精诚华旗微电子设备有限公司，未经青岛精诚华旗微电子设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820095766.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
