[实用新型]一种具有深沟槽的碳化硅超结SBD器件元胞结构有效

专利信息
申请号: 201820101695.6 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN211480043U 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 袁俊;黄兴;倪炜江;张敬伟;牛喜平;李明山;徐妙玲;陈欣璐;吕枞;窦娟娟;耿伟;孙安信 申请(专利权)人: 北京世纪金光半导体有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 代理人: 张宇锋
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种具有深沟槽的碳化硅超结SBD器件元胞结构,所述元胞结构的N外延层中设置有若干个深沟槽,所述深沟槽的深度为t1,所述N外延层的厚度为T=t1+t2,其中,t1大于t2;深沟槽的侧壁及底部注入一圈PPlus,然后在深沟槽中填入P型掺杂的多晶硅或金属,并与肖特基区的肖特基接触金属相连。本申请通过在碳化硅SBD器件元胞中结合深沟槽结构和与其相连P Plus结构,构造出一种新颖的超结器件,能避免传统超结结构的深注入或多次外延工艺的难度,进一步降低器件正向导通损耗,增强SBD器件的耐压能力,可靠性和抗干扰能力。
搜索关键词: 一种 具有 深沟 碳化硅 sbd 器件 结构
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