[实用新型]用于在基底的表面上形成涂层的装置有效
申请号: | 201820177651.1 | 申请日: | 2018-02-01 |
公开(公告)号: | CN207944145U | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | K·阿西卡拉 | 申请(专利权)人: | BENEQ有限公司 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12 |
代理公司: | 北京汇知杰知识产权代理事务所(普通合伙) 11587 | 代理人: | 吴焕芳;杨勇 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于在基底的表面上形成涂层的装置。该装置包括沉积室(100)以及至少一个雾化器(10),其中沉积室(100)具有顶壁(101)和从顶壁(101)向下延伸的至少一个侧壁(102)以限定出沉积空间(200)。该至少一个侧壁(102)包括内侧壁表面(103)和设置于至少一个侧壁(102)上并横向于竖直方向延伸的纵向凹槽(110),该纵向凹槽(110)从内侧壁表面朝向沉积室(100)的沉积空间(200)的外部凹入至少一个侧壁(102)中,该纵向凹槽(110)具有凹槽底部(120)和从凹槽底部(120)向上延伸的相对的凹槽侧壁(122、124)以便形成流动通道。根据本实用新型,该装置防止凝结到沉积室的侧壁上的液体微滴流向待涂覆的基底上。 | ||
搜索关键词: | 侧壁 沉积室 纵向凹槽 基底 本实用新型 内侧壁表面 沉积空间 顶壁 凹槽侧壁 方向延伸 流动通道 向上延伸 向下延伸 液体微滴 雾化器 凹入 竖直 涂覆 凝结 外部 | ||
【主权项】:
1.一种用于在基底的表面上形成涂层的装置(1),所述装置包括:‑沉积室(100),所述沉积室(100)具有顶壁(101)和从所述顶壁(101)向下延伸的至少一个侧壁(102),所述顶壁(101)和所述至少一个侧壁(102、202)限定出在所述沉积室(100)内的沉积空间(200、200a、200b),以及‑至少一个雾化器(10),所述至少一个雾化器(10)用于将液相先驱体雾化成微滴以形成气溶胶,其特征在于,所述至少一个侧壁(102、202)包括:‑内侧壁表面(103);‑纵向凹槽(110、210),所述纵向凹槽(110、210)设置于所述至少一个侧壁(102、202)上并且横向于竖直方向延伸,所述纵向凹槽(110、210)从所述内侧壁表面(103、203)朝向所述沉积室(100)的所述沉积空间(200、200a、200b)的外部凹入所述至少一个侧壁(102、202)中,所述纵向凹槽(110、210)具有凹槽底部(120)和从所述凹槽底部(120)向上延伸的相对的凹槽侧壁(122、124),以便形成流动通道。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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