[实用新型]用于在基底的表面上形成涂层的装置有效

专利信息
申请号: 201820177651.1 申请日: 2018-02-01
公开(公告)号: CN207944145U 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: K·阿西卡拉 申请(专利权)人: BENEQ有限公司
主分类号: C23C4/12 分类号: C23C4/12
代理公司: 北京汇知杰知识产权代理事务所(普通合伙) 11587 代理人: 吴焕芳;杨勇
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要: 实用新型涉及一种用于在基底的表面上形成涂层的装置。该装置包括沉积室(100)以及至少一个雾化器(10),其中沉积室(100)具有顶壁(101)和从顶壁(101)向下延伸的至少一个侧壁(102)以限定出沉积空间(200)。该至少一个侧壁(102)包括内侧壁表面(103)和设置于至少一个侧壁(102)上并横向于竖直方向延伸的纵向凹槽(110),该纵向凹槽(110)从内侧壁表面朝向沉积室(100)的沉积空间(200)的外部凹入至少一个侧壁(102)中,该纵向凹槽(110)具有凹槽底部(120)和从凹槽底部(120)向上延伸的相对的凹槽侧壁(122、124)以便形成流动通道。根据本实用新型,该装置防止凝结到沉积室的侧壁上的液体微滴流向待涂覆的基底上。
搜索关键词: 侧壁 沉积室 纵向凹槽 基底 本实用新型 内侧壁表面 沉积空间 顶壁 凹槽侧壁 方向延伸 流动通道 向上延伸 向下延伸 液体微滴 雾化器 凹入 竖直 涂覆 凝结 外部
【主权项】:
1.一种用于在基底的表面上形成涂层的装置(1),所述装置包括:‑沉积室(100),所述沉积室(100)具有顶壁(101)和从所述顶壁(101)向下延伸的至少一个侧壁(102),所述顶壁(101)和所述至少一个侧壁(102、202)限定出在所述沉积室(100)内的沉积空间(200、200a、200b),以及‑至少一个雾化器(10),所述至少一个雾化器(10)用于将液相先驱体雾化成微滴以形成气溶胶,其特征在于,所述至少一个侧壁(102、202)包括:‑内侧壁表面(103);‑纵向凹槽(110、210),所述纵向凹槽(110、210)设置于所述至少一个侧壁(102、202)上并且横向于竖直方向延伸,所述纵向凹槽(110、210)从所述内侧壁表面(103、203)朝向所述沉积室(100)的所述沉积空间(200、200a、200b)的外部凹入所述至少一个侧壁(102、202)中,所述纵向凹槽(110、210)具有凹槽底部(120)和从所述凹槽底部(120)向上延伸的相对的凹槽侧壁(122、124),以便形成流动通道。
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