[实用新型]双面抛光机有效
| 申请号： | 201820179336.2 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN208084063U | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 王立军 | 申请（专利权）人： | 深圳市普盛旺科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B47/20;B24B41/06;B24B29/00 |
| 代理公司： | 深圳市华勤知识产权代理事务所(普通合伙) 44426 | 代理人： | 隆毅 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种双面抛光机，包括：底座，其中央设有抛光室；共轴设置的两个抛光轮，位于抛光室内左右相对两侧，待加工工件位于两抛光轮之间；两个驱动电机，各驱动一个抛光轮；以及相对设置的两个夹紧机构，用于固定待加工工件。本实用新型中两抛光轮分别位于抛光室内左右相对两侧，待加工工件位于两抛光轮之间，因此可同时对工件的两侧进行抛光加工。同时，两夹紧机构分别于工件的另外两侧夹紧工件，使之位置固定以便于抛光处理。本实用新型同时对工件的相对两侧进行抛光加工，相较于单侧加工方式，可缩短一半的抛光时间，大幅提高加工效率。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光轮 本实用新型 待加工工件 相对两侧 抛光 双面抛光机 夹紧机构 抛光加工 室内 共轴设置 夹紧工件 加工效率 抛光处理 驱动电机 相对设置 抛光室 底座 驱动 加工 | ||
【主权项】：
1.一种双面抛光机，其特征在于，包括：底座，所述底座中央设有用于容置及抛光待加工工件的抛光室；共轴设置的两个抛光轮，位于所述抛光室内左右相对两侧，所述待加工工件位于两抛光轮之间；两个驱动电机，各驱动一个抛光轮；以及，相对设置的两个夹紧机构，位于两所述抛光轮之间，用于固定所述待加工工件，两夹紧机构分别位于所述抛光室的前后相对两侧，且两夹紧机构的连线与两抛光轮的轴线垂直。
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