[实用新型]采用MLA技术的超高精度3D打印的光路系统有效
申请号: | 201820195046.7 | 申请日: | 2018-02-05 |
公开(公告)号: | CN207833219U | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
发明(设计)人: | 李源;韩建崴;杨小红 | 申请(专利权)人: | 中山新诺科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人: | 邹常友 |
地址: | 528437 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种采用MLA技术的超高精度3D打印的光路系统,其特征在于:包括依次设置的光源、匀光系统、数字微镜空间光调制器、远心镜头一、微透镜阵列、远心镜头二、基板,所述光源射出的光通过匀光系统到达数字微镜空间光调制器形成平行光束进入远心镜头一,经远心镜头一的平行光束射入微透镜阵列且微透镜阵列位于远心镜头一的成像位置。经微透镜阵列的平行光束进入远心镜头二以增大成像距离,基板位于远心镜头二的成像位置以便于进行光刻。 | ||
搜索关键词: | 远心镜头 微透镜阵列 平行光束 空间光调制器 成像位置 光路系统 数字微镜 匀光系统 基板 光源 打印 本实用新型 成像距离 透镜阵列 依次设置 光刻 射出 | ||
【主权项】:
1.采用MLA技术的超高精度3D打印的光路系统,其特征在于:包括依次设置的光源、匀光系统、数字微镜空间光调制器、远心镜头一、微透镜阵列、远心镜头二、基板,所述光源射出的光通过匀光系统到达数字微镜空间光调制器形成平行光束进入远心镜头一,经远心镜头一的平行光束射入微透镜阵列且微透镜阵列位于远心镜头一的成像位置,经微透镜阵列的平行光束进入远心镜头二以增大成像距离,基板位于远心镜头二的成像位置以便于进行光刻。
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