[实用新型]一种真空反应装置及反应腔

摘要

本实用新型公开了一种真空反应装置，反应腔外设有加热器；反应腔内放置载具，所述载具导电并与反应腔内的其他部分绝缘，所述载具为至少一组平行排列的平板，两相邻的平板分别接等离子体电源的两极；设有多组平行排列的平板时，平行平板通过导电元件交替相互连接并引出真空腔体外，分别接等离子体电源的两极；所述反应腔一端设出气口，出气口连真空泵，另一端设进气口，进气口连接气源。真空反应装置既可以进行等离子体增强原子层沉积反应又可以进行等离子体增强化学气相沉积反应。本实用新型中采用绝缘的管式炉体和可承载大批量硅片的载具，可使载具上这些硅片一次同时处理，同时保持所镀薄膜的片内、片间和批间具有较高的厚度均匀性。

主权项

1.一种用于真空反应装置的反应腔，其特征在于：所述反应腔外设有加热器；反应腔内放置载具，载具上放置待镀膜物体，所述载具导电并与反应腔内的其他部分绝缘；所述载具为至少一组平行排列的平板，两相邻的平板分别接等离子体电源的两极；所述反应腔一端设出气口，出气口连真空泵，另一端设进气口，进气口连接气源。