[实用新型]一种用于玻璃基板处理后的剥离液的再生系统有效

专利信息
申请号: 201820259587.1 申请日: 2018-02-15
公开(公告)号: CN208340142U 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: 山世清 申请(专利权)人: 上海晶福机电科技有限公司
主分类号: B01D3/00 分类号: B01D3/00;G03F7/42
代理公司: 上海海钧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31330 代理人: 陈剑
地址: 201114 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种用于玻璃基板处理后的剥离液的再生系统,包括回收系统和浓度调整系统,通过在处理玻璃基板制作中生成的剥离液废液的时候,采用回收系统回收大部分的有用化学品成份,并通过浓度调整系统来调整回收液中的有用化学品成份的浓度比例,以达到制程需求规格,可以投入生产流程加以再次使用。本申请所公开的技术方案,在通过回收系统减少剥离液废液排放、保护环境、降低环保成本的同时,还通过浓度调整系统保证了回收后的剥离液可以立刻投入生产流程,再次使用。工业流程相对简单,工作可靠,所带来的经济效益明显又直接。
搜索关键词: 浓度调整系统 玻璃基板 回收系统 剥离液 剥离液废液 生产流程 再次使用 再生系统 化学品 工业流程 环保成本 回收 回收液 制程 申请 排放 制作 保证
【主权项】:
1.一种用于玻璃基板处理后的剥离液的再生系统,其特征在于,用于处理玻璃基板制作中生成的剥离液废液,并生成可再次使用的剥离液新液,包括回收系统和浓度调整系统,所述回收系统用于回收所述废液中的有用化学品成份,所述浓度调整系统用于调整回收液中所述有用化学品成份的浓度比率,以达到制程需求规格;所述有用化学品成份包括单乙醇胺MEA、二乙二醇单丁醚BDG、二甲基亚砜DMSO和N‑甲基吡咯烷酮NMP。
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