[实用新型]一种三维溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201820273367.4 | 申请日： | 2018-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN207958488U | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 王德苗;任高潮;顾为民;金浩;冯斌 | 申请（专利权）人： | 苏州求是真空电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种三维溅射镀膜装置，包括真空腔体、磁控溅射靶组件以及搅拌锅，磁控溅射靶组件设置在真空腔体的顶部，搅拌锅设置在真空腔体的底部，搅拌锅开口与磁控溅射靶组件相对，搅拌锅内设置有搅拌桨。本实用新型可实现圆珠、圆柱体、四面体、六面体等材料的外表面整体均匀镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 搅拌锅 磁控溅射靶 真空腔体 溅射镀膜装置 本实用新型 三维 均匀镀膜 组件设置 搅拌桨 六面体 四面体 圆珠 开口 | ||
【主权项】：
1.一种三维溅射镀膜装置，其特征在于：包括真空腔体、磁控溅射靶组件以及搅拌锅，磁控溅射靶组件设置在真空腔体的顶部，搅拌锅设置在真空腔体的底部，搅拌锅开口与磁控溅射靶组件相对，搅拌锅内设置有搅拌桨。
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