[实用新型]一种气囊辅助式力控抛光系统

摘要

本实用新型提供了一种气囊辅助式力控抛光系统，属于抛光设备技术领域。它解决了现有抛光头输出的打磨力容易产生波动等技术问题。本气囊辅助式力控抛光系统包括机架、前压板、后压板和控制器，前压板和后压板上分别具有前连杆和后连杆，前连杆和后连杆分别滑动连接在机架的前端部和后端部，前连杆上固定有气动马达，气动马达的输出轴上固定有抛光盘，前压板的前连杆上套设且固定有第一气囊，气动马达与前连杆之间设置有力传感器，抛光系统还包括驱动后压板沿后连杆轴向移动的驱动机构，驱动机构和力传感器均与控制器电连接。抛光系统能够使抛光盘输出稳定的打磨力，恒力打磨可以有效的实现均匀性抛光，提高打磨精度。

主权项

1.一种气囊辅助式力控抛光系统，包括机架(1)、前压板(2)、后压板(3)和控制器(4)，所述前压板(2)和后压板(3)上分别具有前连杆(2a)和后连杆(3a)，所述前连杆(2a)和后连杆(3a)分别滑动连接在所述机架(1)的前端部和后端部，所述前连杆(2a)上固定有气动马达(5)，所述气动马达(5)的输出轴上固定有抛光盘(6)，其特征在于，所述前压板(2)的前连杆(2a)上套设且固定有第一气囊(7)，所述后压板(3)与前压板(2)相对设置且二者相固连，所述气动马达(5)与前连杆(2a)之间设置有力传感器(8)，所述抛光系统还包括驱动所述后压板(3)沿后连杆(3a)轴向移动的驱动机构，所述驱动机构和力传感器(8)均与所述控制器(4)电连接。