[实用新型]一种激光烧蚀薄膜制备设备有效
申请号: | 201820299225.5 | 申请日: | 2018-03-05 |
公开(公告)号: | CN207944150U | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 刘全生;张希艳;柏朝晖;王晓春;孙海鹰;王能利;米晓云;卢利平 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | C23C26/00 | 分类号: | C23C26/00 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 陆晓鹰 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种激光烧蚀薄膜制备设备,由电源控制系统、激光系统、样品室、冷却系统和真空气氛系统五部分组成;所述电源控制系统包含:总电源、激光电源功率控制、冷却水控制、选配件位移控制电源;并且所述总电源、激光电源功率控制、冷却水控制、选配件位移控制电源、以及计算机系统之间为控制式电性连接,并且通过一计算机系统及软件形成控制;该设备主要采用激光技术为热源,利用迅速的高温、高压作用形成各种氧化物、氮化物二元膜及三元和多元薄膜,而且结构简单、体积小、制造成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 薄膜制备设备 电源控制系统 冷却水控制 功率控制 激光电源 激光烧蚀 位移控制 选配件 总电源 计算机系统 电源 本实用新型 电性连接 多元薄膜 高压作用 激光技术 激光系统 冷却系统 真空气氛 制造成本 氮化物 控制式 体积小 样品室 热源 氧化物 | ||
【主权项】:
1.一种激光烧蚀薄膜制备设备,由电源控制系统、激光系统、样品室、冷却系统和真空气氛系统五部分组成;所述电源控制系统包含:总电源、激光电源功率控制、冷却水控制、选配件位移控制电源;并且所述总电源、激光电源功率控制、冷却水控制、选配件位移控制电源、以及计算机系统之间为控制式电性连接,并且通过一计算机系统及软件形成控制;所述激光系统包含:激光器、输出端口耦合部件、光束调控装置、光纤、样品室耦合装置;所述激光器、输出端口耦合部件和光束调控装置形成机械式控制连接,且所述样品室耦合装置和光束调控装置之间通过光纤形成控制式连接;同时所述激光器和总电源形成电性连接;所述样品室包含:位于真空气氛室内的位移台、第一样品台、温度控制装置、测温装置、第二样品台、观察窗口、开关;同时,第一样品台位于位移台的上端,测温装置位于第二样品台的上端,温度控制装置位于测温装置的右端,以及,观察窗口和开关位于真空气氛室的侧边;所述冷却系统包含:制冷装置、阀门、管道、循环泵;所述制冷装置位于激光器底部,并通过循环泵和激光器形成连接,以及通过管道和封闭箱体形成连接,并且在激光器和管道之间设有阀门;所述真空气氛系统包含:泵、气瓶、气路、气阀;所述泵、气瓶均通过气路和封闭箱体形成连接;并且在气路上设有气阀。
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