[实用新型]一种化工生产用反应釜清洗烘干装置

摘要

本实用新型公开了一种化工生产用反应釜清洗烘干装置，包括反应釜盖和反应釜装置本体，所述反应釜盖的侧面设有电源线，该种化工生产用反应釜清洗烘干装置，反应釜装置本体的侧面安装了高压水枪，利用高压的水流对反应釜内壁进行冲击清洗，反应釜盖的内部安装了Y335电动机，除污板的外部安装了细铁丝和螺旋毛刷，利用Y335电动机的旋转来带动除污板旋转，使得细铁丝和螺旋毛刷对反应釜内壁进行双层清理，除污板的内部安装了TF‑M型远红外加热器用于清理完后进行烘干，在除污板的底部安装了DRSD电容式湿度传感器，当达到设定的值后会自动的停止烘干，并且报警灯会响提醒工作人员烘干完成。

主权项

1.一种化工生产用反应釜清洗烘干装置，包括反应釜盖（1）和反应釜装置本体（4），其特征在于：所述反应釜盖（1）的侧面设有电源线（8），所述反应釜盖（1）与反应釜装置本体（4）铰链连接，所述反应釜盖（1）的内部设有电机箱（14），且所述电机箱（14）与反应釜盖（1）通过设置在电机箱（14）侧面的螺栓固定，所述电机箱（14）的内部设有Y335电动机（15），且所述Y335电动机（15）与电机箱（14）通过设置在Y335电动机（15）侧面的螺栓固定，所述电机箱（14）的内部设有PLC控制器（16），且所述PLC控制器（16）与电机箱（14）通过强力胶粘合，并与电源线（8）电性连接，所述Y335电动机（15）的侧面设有旋转轴（17），且所述旋转轴（17）部分嵌入设置在Y335电动机（15）中，所述旋转轴（17）的底部设有旋转盘（20），且所述旋转盘（20）嵌套设置在旋转轴（17）上，所述旋转盘（20）的底部设有除污板（22），且所述除污板（22）与旋转盘（20）通过设置在旋转盘（20）侧面的螺丝固定，所述除污板（22）的内部设有TF‑M型远红外加热器（18），且所述TF‑M型远红外加热器（18）嵌入设置在除污板（22）中，并与电源线（8）电性连接，所述除污板（22）的侧面设有细铁丝（13），且所述细铁丝（13）嵌入设置在除污板（22）中，所述除污板（22）的侧面设有螺旋毛刷（12），且所述螺旋毛刷（12）与除污板（22）通过强力胶粘合，所述除污板（22）的底部设有DRSD电容式湿度传感器（21），且所述DRSD电容式湿度传感器（21）与除污板（22）通过强力胶粘合，并与电源线（8）电性连接，所述反应釜盖（1）的侧面设有干燥控制开关（2），且所述干燥控制开关（2）嵌入设置在反应釜盖（1）中，所述反应釜装置本体（4）的侧面设有对称的进水管（10），且所述进水管（10）部分嵌入设置在反应釜装置本体（4）中，所述进水管（10）的侧面设有进水阀（9），且所述进水阀（9）部分嵌入设置在进水管（10）中，所述进水管（10）的侧面设有高压水枪（11），且所述高压水枪（11）与进水管（10）连通，所述反应釜装置本体（4）的底部设有排污管（5），且所述排污管（5）与反应釜装置本体（4）连通，所述排污管（5）的侧面设有排污阀（6），且所述排污阀（6）部分嵌入设置在排污管（5）中。