[实用新型]一种适用于CVD金刚石制备的新型散热结构有效
| 申请号： | 201820307332.8 | 申请日： | 2018-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN207904363U | 公开（公告）日： | 2018-09-25 |
| 发明（设计）人： | 武迪;郑大平;朱瑞;杨明;徐元成 | 申请（专利权）人： | 湖北碳六科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 杨采良 |
| 地址： | 443400 湖北省宜*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种适用于CVD金刚石制备的新型散热结构，包括基片台和散热样品台；所述散热样品台上放置样品的位置开有一个略小于样品长宽尺寸的小槽，所述小槽内部填充有低熔点金属粉末，所述样品位于金属粉末之上。该结构将低熔点金属粉末放置于样品和样品台之间，利用对样品加热升温至金刚石沉积温度过程中所吸收的热量熔化并与样品反面和样品台表面紧密贴合，能够阻挡石墨在样品和样品台之间的堆积，实现稳定的能量传递。 | ||
| 搜索关键词： | 样品台 低熔点金属粉末 新型散热结构 散热 小槽 制备 熔化 本实用新型 金刚石沉积 样品台表面 金属粉末 紧密贴合 内部填充 能量传递 温度过程 样品加热 石墨 基片台 堆积 阻挡 吸收 | ||
【主权项】：
1.一种适用于CVD金刚石制备的新型散热结构，包括基片台和散热样品台，其特征在于：所述散热样品台上放置样品的位置开有一个略小于样品长宽尺寸的小槽，所述小槽内部填充有低熔点金属粉末，所述样品位于金属粉末之上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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