[实用新型]一种外包覆式高效能低漏电流的肖基二极管结构有效

专利信息
申请号: 201820365004.3 申请日: 2018-03-16
公开(公告)号: CN208045506U 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 张峻玮 申请(专利权)人: 张峻玮
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L21/329;H01L29/872
代理公司: 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 代理人: 郑玉洁
地址: 中国台湾新竹县芎*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种外包覆式高效能低漏电流的肖基二极管结构,包括一下金属层,其作为欧姆接口;一基板位于该下金属层上方;一磊晶层位于该基板的上方,且具有第一导电形态;该磊晶层掺杂形式与该基板相同,且其掺杂浓度较小;一上金属层位于该磊晶层上方,该上金属层作为肖基接口;两个保护区,位于该磊晶层两侧及该上金属层的下方;各保护区由该磊晶层的上表面掺杂杂质而形成,其中该保护区的导电形式与该磊晶层的导电形式不相同;其中该上金属层、该保护区、该磊晶层及该基板的两个侧边分别形成一沟槽;以及两个挡板分别位于该沟槽中且包覆该上金属层、该保护区、该磊晶层及该基板的侧边。
搜索关键词: 磊晶层 上金属层 保护区 基板 二极管结构 导电形式 高效能 漏电流 外包覆 侧边 掺杂 挡板 掺杂杂质 导电形态 下金属层 基接口 金属层 上表面 包覆
【主权项】:
1.一种外包覆式高效能低漏电流的肖基二极管结构,其特征在于,包括:一下金属层,其作为欧姆接口;一基板,其位于该下金属层上方;一磊晶层,其位于该基板的上方,且具有第一导电形态;该磊晶层掺杂形式与该基板相同,且其掺杂浓度小;一上金属层,其位于该磊晶层上方,该上金属层作为肖基接口;两个保护区,位于该磊晶层两侧及该上金属层的下方;各保护区由该磊晶层的上表面掺杂杂质而形成,其中,该保护区的导电形式与该磊晶层的导电形式不相同;其中,该上金属层、该保护区、该磊晶层及该基板的两个侧边分别形成一沟槽;以及两个挡板,该两个挡板分别位于该沟槽中且包覆该上金属层、该保护区、该磊晶层及该基板的侧边。
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