[实用新型]坩埚底呈阶梯形的坩埚有效

专利信息
申请号: 201820369918.7 申请日: 2018-03-19
公开(公告)号: CN208043721U 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 赵岩;陈刚;祁国恕;侯海盟;曾乐;裴江涛;范群;臧雪莉;张广鑫;李述贤;蒋帅 申请(专利权)人: 沈阳环境科学研究院
主分类号: G01N25/00 分类号: G01N25/00;B01L3/04
代理公司: 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 代理人: 王勇
地址: 110169 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种坩埚底呈阶梯形的坩埚,要解决的问题是,在固体粉末状样品的燃烧/气化反应的热分析过程中,样品与反应气之间传质条件不佳。本实用新型的要点是:由坩埚壁和坩埚底组成,其特征在于:坩埚壁呈空心斜截圆柱形,坩埚底内面呈阶梯形,最低一级阶梯的圆弧中点与坩埚壁最低点对正。将样品均匀平铺于所述坩埚底内面上,坩埚壁的最低点和最高点正对着来自水平方向的反应气,且最低点在前,反应气通过强制输运直接到达样品层,同时反应生成的气相产物通过反应气的强制输运而快速逸出。
搜索关键词: 坩埚 反应气 坩埚壁 本实用新型 输运 固体粉末状 传质条件 均匀平铺 气化反应 气相产物 圆弧中点 热分析 样品层 对正 斜截 逸出 正对 燃烧
【主权项】:
1.一种坩埚底呈阶梯形的坩埚,由坩埚壁和坩埚底组成为一体,其特征在于:坩埚壁呈空心斜截圆柱形,使坩埚口呈圆管斜切口,所述坩埚底内面呈阶梯形;其中最低阶梯的圆弧中点与坩埚壁即圆管斜切口的最低点对正,坩埚壁最低点距最低阶梯面的高度为0.5~1 mm;坩埚壁的最高点距最高阶梯面的高度为1.5~2.5 mm;每级阶梯的高度为1‑2 mm;圆管斜切口所在面与水平面之间夹角的正切值为1:3~1:1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳环境科学研究院,未经沈阳环境科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820369918.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top