[实用新型]一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置有效
申请号: | 201820372368.4 | 申请日: | 2018-03-19 |
公开(公告)号: | CN207992682U | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 吴琼;张琦;王历先;项宗齐;何少锋 | 申请(专利权)人: | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 宋倩;奚华保 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置,包括对准镜筒,依次设置在对准镜筒内的压圈、隔圈、透镜和LED光源,连接在对准镜筒上端的吸盘通光光阑底座,设置在吸盘通光光阑底座内的MEMS光阑,以及连接在对准镜筒下端的LED托板。本实用新型采用MEMS光阑,这种MEMS光阑不同于以往的机械光阑,是利用半导体曝光机及光刻工艺加工而成,光阑孔是图形而不是通孔,可防止灰尘落入打标装置中,且光阑孔具有700nm的超高精度,大大提升了打标装置的精度,从而提高了直写光刻设备的内层对准速度。 | ||
搜索关键词: | 光阑 打标装置 对准 镜筒 光刻设备 直写 吸盘 本实用新型 通光光阑 光阑孔 底座 透镜 光刻工艺 依次设置 曝光机 上端 隔圈 内层 通孔 托板 压圈 半导体 加工 | ||
【主权项】:
1.一种用于直写光刻设备中的MEMS光阑打标装置,其特征在于:包括对准镜筒,依次设置在对准镜筒内的压圈、隔圈、透镜和LED光源,连接在对准镜筒上端的吸盘通光光阑底座,设置在吸盘通光光阑底座内的MEMS光阑,以及连接在对准镜筒下端的LED托板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥芯碁微电子装备有限公司,未经合肥芯碁微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820372368.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。