[实用新型]一种可避免曝光不良的菲林片有效
| 申请号： | 201820404005.4 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN207965468U | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 蒋海雷 | 申请（专利权）人： | 广东祥益鼎盛有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G03F1/48 |
| 代理公司： | 东莞市中正知识产权事务所(普通合伙) 44231 | 代理人： | 张汉青 |
| 地址： | 516000 广东省惠州市仲恺高新区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可避免曝光不良的菲林片，包括菲林片主机构，所述菲林片主机构底部设有底部防护层以及顶部设有顶部防护层，所述菲林片主机构外侧设有边缘防护层，所述菲林片主机构包括菲林片本体，所述菲林片本体上设有刀痕。本实用新型可以有效避免曝光光线发生折射，保证了曝光效果，防止出现曝光不良导致的蚀刻后线路短路或凸铜情况的发生，具有较高的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 菲林片 主机构 本实用新型 防护层 曝光 刀痕 蚀刻 边缘防护 曝光光线 曝光效果 线路短路 折射 保证 | ||
【主权项】：
1.一种可避免曝光不良的菲林片，包括菲林片主机构(1)，其特征在于：所述菲林片主机构(1)底部设有底部防护层(2)以及顶部设有顶部防护层(3)，所述菲林片主机构(1)外侧设有边缘防护层(4)，所述菲林片主机构(1)包括菲林片本体(5)，所述菲林片本体(5)上设有刀痕(6)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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