[实用新型]抛光装置有效
| 申请号： | 201820426055.2 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN208117536U | 公开（公告）日： | 2018-11-20 |
| 发明（设计）人： | 张贝贝;徐志威 | 申请（专利权）人： | 武汉裕展精密科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/04;B24B47/12 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 蒋志行;谢蓓 |
| 地址： | 430200 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种抛光装置，用于对工件进行连续打磨处理实现抛光，所述抛光装置包括支架、驱动件、联轴器、转轴、多个承载轮及多个不同的打磨介质，所述驱动件设置于所述支架上，所述联轴器一端设置于所述驱动件的驱动端上且另一端连接所述转轴，所述转轴转动地设置于所述支架上，多个所述承载轮依次设于所述转轴上，多个不同的所述打磨介质依次分别设置于相应的一个所述承载轮上。上述抛光装置通过在转轴上设置多个承载轮，并在多个承载轮依次上设置不同的打磨介质，通过驱动件驱动转轴带动承载轮及打磨介质旋转，将工件依次通过多个打磨介质进行打磨及抛光，从而完成对工件的抛光，提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 承载轮 打磨 抛光装置 驱动件 转轴 抛光 支架 联轴器 本实用新型 打磨处理 工作效率 驱动转轴 一端连接 一端设置 转轴转动 驱动端 | ||
【主权项】：
1.一种抛光装置，用于对工件进行连续打磨处理实现抛光，其特征在于：所述抛光装置包括支架、驱动件、联轴器、转轴、多个承载轮及多个不同的打磨介质，所述驱动件设置于所述支架上，所述联轴器一端设置于所述驱动件的驱动端上且另一端连接所述转轴，所述转轴转动地设置于所述支架上，多个所述承载轮依次套设于所述转轴上，多个不同的所述打磨介质依次分别设置于相应的一个所述承载轮上。
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