[实用新型]一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机

摘要

本实用新型公开了一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机。本实用新型在平面磁控溅射镀膜机、安装双层旋靶管型柱状磁控溅射靶的磁控溅射镀膜机和阴极电弧离子镀膜机的镀膜室中部设置两个柱状阴极电弧源。在清洗过程中利用两个柱状阴极电弧源互为阴阳极，放电产生的弧光等离子体中的电子流把氩气电离，用得到的高密度的氩离子流轰击清洗工件，增强工件的轰击清洗效果，提高膜基结合力；在工件清洗后的镀膜过程中，两个柱状阴极电弧源参与镀纳米多层膜；在磁控溅射镀膜机中发挥辅助沉积作用。

主权项

1.一种设置固体弧光等离子体清洗源的镀膜机，包括镀膜机本体；所述镀膜机本体包括镀膜室及设于所述镀膜室内的工件转架和镀膜源；其特征在于：所述镀膜室中部设置两个柱状阴极电弧源；镀膜前，两个所述柱状阴极电弧源接交变弧电源；两个所述柱状阴极电弧源互为阴阳极；镀膜时，两个所述柱状阴极电弧源接直流弧电源的负极，所述镀膜室接直流弧电源的正极。