[实用新型]化学机械研磨系统有效
| 申请号： | 201820457756.2 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN208132570U | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 蔡长益 | 申请（专利权）人： | 睿力集成电路有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B37/005;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供化学机械研磨系统，包括：研磨平台；研磨垫，位于研磨平台的上表面；研磨头，位于研磨垫的上方；研磨液供给系统，用于向研磨垫的表面提供研磨液，研磨液供给系统包括第一研磨液供给源、第二研磨液供给源、输液管及喷头；其中，输液管一端与第一研磨液供给源及第二研磨液供给源相连接，另一端与喷头相连接，喷头位于所述研磨垫上方；控制模块，与研磨液供给系统相连接，至少用于调整研磨液供给系统向研磨垫提供所述研磨液的温度。本实用新型不仅可以控制研磨时间、节约生产成本，而且研磨后得到的金属插塞顶部不会存在凹陷，使得金属插塞具有较低的阻值。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨液 研磨垫 研磨液供给系统 供给源 喷头 化学机械研磨系统 本实用新型 金属插塞 研磨平台 研磨 输液管 节约生产成本 控制模块 上表面 研磨头 凹陷 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨系统，其特征在于，所述化学机械研磨系统包括：研磨平台；研磨垫，位于所述研磨平台的上表面；研磨头，位于所述研磨垫的上方，用于将待研磨器件压制于所述研磨垫上进行化学机械研磨；研磨液供给系统，用于向所述研磨垫的表面提供研磨液，所述研磨液供给系统包括第一研磨液供给源、第二研磨液供给源、输液管及喷头；其中，所述输液管一端与所述第一研磨液供给源及所述第二研磨液供给源相连接，另一端与所述喷头相连接，所述喷头位于所述研磨垫上方；及，控制模块，与所述研磨液供给系统相连接，至少用于调整所述研磨液供给系统向所述研磨垫提供所述研磨液的温度。
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