[实用新型]一种真空镀膜的雾化装置有效
| 申请号： | 201820495683.6 | 申请日： | 2018-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN208087732U | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 苏文校 | 申请（专利权）人： | 东莞市优上纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 殷齐齐 |
| 地址： | 523000 广东省东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于镀膜设备技术领域，特别涉及一种真空镀膜的雾化装置，包括机架、升华炉、分解炉和控制柜，升华炉、分解炉和控制柜均设置于机架，控制柜分别与升华炉和分解炉电性连接，升华炉的外壁设置有多个加热片，所述加热片均匀等距分布在所述升华炉的外壁。通过加热片的设置，提高了升华炉的加热的均匀性；而且在控制柜的控制范围内实现了有效地加热，使得本实用新型的雾化效果好，有利于产品镀膜的进行。 | ||
| 搜索关键词： | 升华炉 控制柜 分解炉 加热片 本实用新型 雾化装置 真空镀膜 加热 等距分布 电性连接 镀膜设备 外壁设置 雾化效果 均匀性 有效地 镀膜 外壁 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜的雾化装置，其特征在于：包括机架、升华炉、分解炉和控制柜，所述升华炉、所述分解炉和所述控制柜均设置于所述机架上，所述控制柜分别与所述升华炉和所述分解炉电性连接，所述升华炉的外壁设置有多个加热片，所述加热片均匀等距分布在所述升华炉的外壁。
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