[实用新型]自动供给式激光显微系统有效

专利信息
申请号: 201820539413.0 申请日: 2018-04-16
公开(公告)号: CN208171845U 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 段一舟;张行健;周美煜;王佳怡;左佳欣;朱毅晨 申请(专利权)人: 新星路公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 谭文琰
地址: 美国加利福尼亚州库*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型公开了一种自动供给式激光显微系统,包括将待测对象逐一送至待检位的自动供给装置、用于将激光束聚焦于被检对象上的后侧激光聚焦装置和位于后侧激光聚焦装置前方的后续激光处理装置,待检位为后侧激光聚焦装置的聚焦点,待检位位于后侧激光聚焦装置前侧,自动供给装置位于待检位的一侧。本实用新型结构设计合理且使用操作简便、使用效果好,采用外侧光处理装置将激光束聚焦于待测对象后的光线分为外侧光线和中部光束以便分别进行处理,利用同时获取的外侧光线和中部光束能进一步在提高激光显微系统性能,同时采用通过自动供给装置将待测对象逐一送至待检位,能满足简便、连续且快速对多个待测对象进行分析的实际需求。
搜索关键词: 激光聚焦装置 待测对象 自动供给装置 显微系统 本实用新型 激光束聚焦 激光 自动供给 激光处理装置 光处理装置 实际需求 聚焦点 分析
【主权项】:
1.一种自动供给式激光显微系统,其特征在于:包括将待测对象(108)逐一送至待检位的自动供给装置、用于将激光束聚焦于被检对象上的后侧激光聚焦装置(102)和位于后侧激光聚焦装置(102)前方的后续激光处理装置,所述被检对象为位于所述待检位上的待测对象(108);所述待检位为后侧激光聚焦装置(102)的聚焦点;所述待检位位于后侧激光聚焦装置(102)前侧,所述后续激光处理装置位于所述待检位的正前方;所述自动供给装置位于所述待检位的一侧;所述后续激光处理装置包括对所述激光束聚焦于所述被测对象后产生的外侧光线进行处理的外侧光处理装置(106)、对所述激光束聚焦于所述被测对象后产生的中部光束进行聚焦的前侧激光聚焦装置(114)和经前侧激光聚焦装置(114)聚焦后的光束进行检测的激光探测装置(126),所述外侧光处理装置(106)位于所述被测对象的正前方,所述前侧激光聚焦装置(114)位于外侧光处理装置(106)的正前方或正后方,所述激光探测装置(126)位于前侧激光聚焦装置(114)的正前方;所述外侧光处理装置(106)为衍射装置。
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