[实用新型]基板传送装置和基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201820553227.2 申请日: 2017-07-27
公开(公告)号: CN208923035U 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 谢伊·阿萨夫;安德鲁·康斯坦特;雅各布·纽曼;查尔斯·卡尔森;威廉·泰勒·韦弗;史蒂芬·希克森 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开内容涉及基板传送装置和基板处理装置。本文提供用于处理基板的方法和装置。在一个实施方式中,装置包括耦接至传送腔室的装载锁定腔室。传送腔室耦接至热处理腔室,并且基板在装载锁定腔室、传送腔室和热处理腔室中的各个之间传送。在其他实施方式中,公开具有装载锁定腔室、传送腔室和热处理腔室的处理平台。本文也描述经由传送腔室的抽空测量装载锁定腔室中的氧浓度的方法。
搜索关键词: 传送腔室 锁定腔室 热处理腔室 装载 基板处理装置 基板传送装置 耦接 方法和装置 处理基板 处理平台 基板 抽空 测量 传送
【主权项】:
1.一种基板传送装置,其特征在于,包括:装载锁定腔室,所述装载锁定腔室用于在常压下生成实质惰性的环境,所述装载锁定腔室包括:腔室主体,所述腔室主体界定处理容积;基板支撑件,所述基板支撑件设置在所述处理容积中,所述基板支撑件具有多个流体导管,所述多个流体导管设置在所述基板支撑件中;盖,所述盖与所述基板支撑件相对而耦接至所述腔室主体;净化气体端口,所述净化气体端口穿过所述盖设置;和排气口,所述排气口邻近于所述基板支撑件且与所述净化气体端口相对设置在所述腔室主体中;传送腔室,所述传送腔室用于在常压下生成实质惰性的环境,所述传送腔室耦接至所述装载锁定腔室,所述传送腔室包括:腔室主体,所述腔室主体界定传送容积;机械手,所述机械手设置在所述传送容积中;多个净化气体端口,所述多个净化气体端口设置在所述腔室主体中;和排气口,所述排气口与所述多个净化气体端口相对设置在所述腔室主体中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820553227.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top