[实用新型]扩散炉管设备

摘要

本实用新型提供一种扩散炉管设备。该扩散炉管设备包括扩散炉管反应室、预处理系统以及真空泵，扩散炉管反应室用于半导体器件制造；预处理系统与扩散炉管反应室的废气口连接，预处理系统包括等离子体室，在等离子体室中扩散炉管反应室排出的废气与氧气进行电化学反应，真空泵与预处理系统的出气口连接，以抽取反应的副产气体；本实用新型采用针对扩散炉管设备产生的特定气体分子使用等离子体使其分解达到完全分离的作用。无需冷凝阱，也能实现降低粉尘塞管，避免粉尘进入真空泵影响真空抽气效率及使用寿命。

主权项

1.一种扩散炉管设备，其特征在于，包括：扩散炉管反应室，用于制造半导体器件并产生废气，所述扩散炉管反应室包括用于排出所述扩散炉管反应室中废气的废气口，其中，所述废气包含粉尘；废气预处理系统，所述废气预处理系统的进气口与所述扩散炉管反应室的所述废气口连接，所述废气预处理系统包括等离子体室，所述等离子体室用于使所述粉尘与氧气进行电化学反应，以将所述废气转变为固体废料和副产气体；以及真空泵，所述真空泵与所述废气预处理系统的出气口连接，以抽取所述废气预处理系统中产生的所述副产气体。