[实用新型]基板处理装置有效
| 申请号： | 201820610158.4 | 申请日： | 2018-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN208697130U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 李气雨;崔宇喆 | 申请（专利权）人： | 凯斯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;H01L21/67;F26B5/16;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本实用新型涉及基板处理装置，用于进行基板的研磨工序，该基板处理装置包括：移送带，其沿着规定路径进行循环旋转，在外表面安放基板；基板支撑部，其配置于移送带的内部，隔着移送带支撑基板的下表面；研磨单元，其研磨基板上表面；清洗单元，其清洗移送带，借助于此，可以获得提高基板的研磨效率、提高研磨均匀度的有利效果。 | ||
| 搜索关键词： | 基板处理装置 基板 本实用新型 基板支撑部 研磨均匀度 清洗单元 循环旋转 研磨单元 研磨基板 研磨效率 支撑基板 研磨 上表面 下表面 清洗 配置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，用于进行基板的研磨工序，其特征在于，包括：移送带，其沿着规定路径循环旋转，在外表面安放基板；基板支撑部，其配置于所述移送带的内部，隔着所述移送带支撑所述基板的下表面；研磨单元，其研磨所述基板的上表面；清洗单元，其清洗所述移送带。
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