[实用新型]偏振不敏感电磁吸收结构有效
| 申请号： | 201820611147.8 | 申请日： | 2018-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN208488562U | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 周云;罗明辉;成堂东;乔文;杨帆;李玲;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 唐静芳 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构，该偏振不敏感电磁吸收结构包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；所述光栅凹槽在金属光栅层上呈周期性布置，其周期不大于500nm；所述光栅凹槽在所述金属光栅层上的占空比为0.4‑0.8；所述光栅凹槽的高度为50‑400nm；所述偏振不敏感电磁吸收结构所接收的光的偏振角度为0°‑45°；所述光栅凹槽呈条状；所述金属光栅层为一维金属光栅。本实用新型的偏振不敏感电磁吸收结构通过在金属光栅层上形成光栅凹槽，并在光栅凹槽内设置非金属填充介质，从而使其结构更为简单，提高了吸收效率，且针对不同偏振光的入射情况，均有较好的吸收效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅凹槽 金属光栅层 偏振不敏感 电磁吸收 非金属填充介质 本实用新型 偏振光 一维金属光栅 周期性布置 吸收效率 占空比 偏振 入射 吸收 | ||
【主权项】：
1.一种偏振不敏感电磁吸收结构，其特征在于，包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；所述金属光栅层的材料为铝、银、金中的任意一种；所述非金属填充介质为氮化硅。
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