[实用新型]一种混合物理化学气相沉积装置有效
申请号: | 201820656285.8 | 申请日: | 2018-05-03 |
公开(公告)号: | CN208266264U | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 郭峥山;蔡欣炜;吕肖圆;冯庆荣 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | C23C16/38 | 分类号: | C23C16/38;C23C16/455;C23C14/06;C23C14/22 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人: | 李稚婷 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种混合物理化学气相沉积装置,用于在曲面衬底上生长MgB2厚膜。其包括反应舱,在反应舱外围设有感应加热线圈,内部设有样品台和样品衬底,其特征在于,所述样品台位于反应舱底部,由圆环部分和位于圆环中心的用于放置固体样品源的孤岛组成,且圆环部分的外缘凸起;所述样品衬底为圆筒形,垂直放置在样品台的圆环部分上;反应舱的顶部设有用于通入反应气体进气口。该装置改变了反应舱内的气流方向,使得在曲面衬底上生长MgB2厚膜的操作更加简单有效。 | ||
搜索关键词: | 反应舱 衬底 样品台 圆环 物理化学 气相沉积装置 厚膜 进气口 感应加热线圈 本实用新型 垂直放置 反应气体 固体样品 圆环中心 生长 圆筒形 凸起 孤岛 外围 | ||
【主权项】:
1.一种混合物理化学气相沉积装置,包括反应舱,在反应舱外围设有感应加热线圈,在反应舱内设有样品台和样品衬底,其特征在于,所述样品台位于反应舱底部,由圆环部分和位于圆环中心的用于放置固体样品源的孤岛组成,且圆环部分的外缘凸起;所述样品衬底为圆筒形,垂直放置在样品台的圆环部分上;反应舱的顶部设有用于通入反应气体进气口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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