[实用新型]基板处理装置有效
| 申请号： | 201820677070.4 | 申请日： | 2018-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN208697131U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 李昊俊 | 申请（专利权）人： | 凯斯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本实用新型涉及基板处理装置，包括：基板放置部，其放置基板；研磨单元，其相对于基板进行移动并研磨基板的上表面；流体喷射单元，其沿着研磨单元相对于基板的移动方向，配备于研磨单元的后方，向基板喷射流体，借助于此，可以获得使研磨颗粒等异物在基板固着实现最小化、提高清洗效率的有利效果。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 研磨单元 基板处理装置 流体喷射单元 本实用新型 基板放置部 喷射流体 清洗效率 研磨基板 研磨颗粒 移动方向 上表面 最小化 异物 固着 配备 移动 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，用于进行基板的研磨工序，其特征在于，包括：基板放置部，其放置基板；研磨单元，其相对于所述基板进行移动，研磨所述基板的上表面；流体喷射单元，其沿着所述研磨单元相对于所述基板的移动方向，配备于所述研磨单元的后方，向所述基板喷射流体。
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