[实用新型]一种水箱底部的涡旋清洗排污装置有效
| 申请号： | 201820686004.3 | 申请日： | 2018-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN208527606U | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 王洪刚 | 申请（专利权）人： | 青岛沈源水务环保科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/093 | 分类号： | B08B9/093 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，包括底板，底板上方设置有圆形外导流板，底板中部下方设置有下陷的凹陷聚集区，凹陷聚集区中部设置有排污口，底板上方在外导流板与凹陷聚集区之间设置有若干内导流板，外导流板上设置有一个高压喷口；所述的内导流板与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口与指向圆心方向呈一定角度。本实用新型的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，通过高压喷口形成快速强力的脉冲式间歇涡旋水流，提高了清洗的效率及效果，冲洗完毕后，涡旋水流静止，污染物将聚集在涡旋中心，而涡旋中心设置凹陷的聚集区及排污口，聚集完成后，打开排污口下方的排污阀，即可将污物排掉。 | ||
| 搜索关键词： | 聚集区 凹陷 底板 清洗排污装置 高压喷口 外导流板 排污口 水箱 涡旋 本实用新型 圆心 内导流板 涡旋水流 涡旋中心 指向 底板中部 快速强力 脉冲式 排污阀 下陷 冲洗 静止 清洗 污染物 | ||
【主权项】：
1.一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，其特征在于：包括底板，底板上方设置有圆形外导流板，底板中部下方设置有下陷的凹陷聚集区，凹陷聚集区中部设置有排污口，底板上方在外导流板与凹陷聚集区之间设置有若干内导流板，外导流板上设置有一个高压喷口；所述的内导流板与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口与指向圆心方向呈一定角度。
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