[实用新型]一种磁控溅射靶及磁体结构有效
| 申请号： | 201820698624.9 | 申请日： | 2018-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN208183066U | 公开（公告）日： | 2018-12-04 |
| 发明（设计）人： | 臧龙杰 | 申请（专利权）人： | 昆山世高新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射靶及磁体结构，箱体内设有永久磁铁，永久磁铁与同轴励磁线圈连接，永久磁铁外侧设有冷却系统，永久磁铁上方设有励磁线圈，永久磁铁与铜靶连接，本实用新型具有溅射率高、操控方便、装置性能稳定等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 永久磁铁 本实用新型 磁控溅射靶 磁体结构 冷却系统 励磁线圈 同轴励磁 线圈连接 装置性能 溅射率 操控 铜靶 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射靶及磁体结构，其特征在于，包括励磁线圈、冷却系统、永久磁铁、铜靶、同轴励磁线圈、箱体，所述箱体内设有永久磁铁，所述永久磁铁与同轴励磁线圈连接，所述永久磁铁外侧设有冷却系统，所述永久磁铁上方设有励磁线圈，所述永久磁铁与铜靶连接。
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