[实用新型]一种远程等离子体清洗装置有效
| 申请号： | 201820703662.9 | 申请日： | 2018-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN208111407U | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 詹铁锤;程光周;薛进;刘龙威 | 申请（专利权）人： | 合肥杰硕真空科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B08B7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市经济技*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种远程等离子体清洗装置，包括：进气装置、等离子体发生装置和真空室；所述进气装置包括混气室、进气管路和进气阀；所述等离子体发生装置包括电感耦合等离子体源和射频电源，所述电感耦合等离子体源包含石英管、铜制螺线管型线圈，所述螺线管型线圈内部可通冷却水防止石英管烧熔；所述真空室包括上缸体和下缸体。本实用新型的一种远程等离子体清洗装置，利用远程等离子体技术优点，通过设定适当的样品台与等离子体源之间的距离，降低电子、离子等高能活性离子浓度，获得更适宜的离子、活性自由基比例，有利于控制目的性反应，实现对半导体晶片的目的性、无损伤清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 远程等离子体清洗 电感耦合等离子体源 等离子体发生装置 螺线管型线圈 本实用新型 进气装置 石英管 真空室 离子 远程等离子体 半导体晶片 等离子体源 活性自由基 无损伤清洗 活性离子 技术优点 进气管路 射频电源 混气室 进气阀 冷却水 上缸体 下缸体 性反应 样品台 烧熔 铜制 | ||
【主权项】：
1.一种远程等离子体清洗装置，包括：进气装置、等离子体发生装置和真空室；所述进气装置包括混气室、进气管路和进气阀；所述等离子体发生装置包括电感耦合等离子体源和射频电源，所述电感耦合等离子体源包含石英管、铜制螺线管型线圈，所述螺线管型线圈内部可通冷却水防止石英管烧熔；所述真空室包括上缸体和下缸体，所述上缸体为锥形结构，上部接电感耦合等离子体源，电感耦合等离子体源下方为匀气室，匀气室底部为多孔板，所述下缸体中部设有样品台，所述样品台下方接升降装置，所述下缸体的底部开设旁抽气路法兰接口和主抽气路法兰接口。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
