[实用新型]掩膜版有效

专利信息
申请号: 201820714906.3 申请日: 2018-05-14
公开(公告)号: CN208266254U 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 刘明星;王徐亮;甘帅燕;高峰;张玄 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐清凯
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种掩膜版,当所述掩膜版被拉伸的方向为第一方向,垂直于所述第一方向的方向为第二方向时,所述掩膜版分布有沿所述第一方向和所述第二方向排列成排的像素开口,在所述第一方向上相邻的两排像素开口中的像素开口在所述第二方向上彼此错开,并且在所述第一方向上相邻的两个所述像素开口之间的在所述第一方向上的间距小于在所述第二方向上的间距。上述掩膜版在张网过程中第一方向上受到的力较大,而相邻两个像素开口之间在第二方向上的第二间距大于第一方向上的第一间距,这为沿第一方向传递的拉力提供较宽的传输通道,使掩膜版不容易在拉力作用下产生褶皱。
搜索关键词: 像素开口 掩膜版 褶皱 彼此错开 传输通道 方向排列 拉力提供 拉力作用 成排 拉伸 两排 掩膜 张网 垂直 传递
【主权项】:
1.一种掩膜版,其特征在于,当所述掩膜版被拉伸的方向为第一方向,垂直于所述第一方向的方向为第二方向时,所述掩膜版分布有沿所述第一方向和所述第二方向排列成排的像素开口,在所述第一方向上相邻的两排像素开口中的像素开口在所述第二方向上彼此错开,并且在所述第一方向上相邻的两个所述像素开口之间的在所述第一方向上的间距小于在所述第二方向上的间距。
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