[实用新型]涂层形成设备有效
申请号: | 201820719966.4 | 申请日: | 2018-05-15 |
公开(公告)号: | CN208562559U | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 黄忠喜;张代琼;周建坤 | 申请(专利权)人: | 泰科电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C25D13/00 | 分类号: | C25D13/00;C25D19/00;C25D17/00;C23C18/00;B05C3/02;B05C11/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 赵荣岗 |
地址: | 200131 上海市浦东新区中国(上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开一种涂层形成设备,所述涂层形成设备包括柜子和集成在所述柜子中的前处理装置、涂层形成装置和后处理装置,所述前处理装置适于对工件进行清洁处理,所述涂层形成装置适于在清洁后的工件上形成涂层,所述后处理装置适于对形成涂层后的工件进行处理。因此,本实用新型可适用于电泳、电镀、自泳和化学镀等不同的涂层形成工艺。 | ||
搜索关键词: | 涂层形成设备 涂层形成装置 本实用新型 后处理装置 前处理装置 柜子 电泳 清洁处理 涂层形成 电镀 化学镀 清洁 | ||
【主权项】:
1.一种涂层形成设备,其特征在于:所述涂层形成设备包括柜子(100)和集成在所述柜子(100)中的前处理装置、涂层形成装置和后处理装置,所述前处理装置适于对工件(10)进行清洁处理,所述涂层形成装置适于在清洁后的工件(10)上形成涂层,所述后处理装置适于对形成涂层后的工件(10)进行处理。
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