[实用新型]涂层形成设备有效

专利信息
申请号: 201820719966.4 申请日: 2018-05-15
公开(公告)号: CN208562559U 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 黄忠喜;张代琼;周建坤 申请(专利权)人: 泰科电子(上海)有限公司
主分类号: C25D13/00 分类号: C25D13/00;C25D19/00;C25D17/00;C23C18/00;B05C3/02;B05C11/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 赵荣岗
地址: 200131 上海市浦东新区中国(上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开一种涂层形成设备,所述涂层形成设备包括柜子和集成在所述柜子中的前处理装置、涂层形成装置和后处理装置,所述前处理装置适于对工件进行清洁处理,所述涂层形成装置适于在清洁后的工件上形成涂层,所述后处理装置适于对形成涂层后的工件进行处理。因此,本实用新型可适用于电泳、电镀、自泳和化学镀等不同的涂层形成工艺。
搜索关键词: 涂层形成设备 涂层形成装置 本实用新型 后处理装置 前处理装置 柜子 电泳 清洁处理 涂层形成 电镀 化学镀 清洁
【主权项】:
1.一种涂层形成设备,其特征在于:所述涂层形成设备包括柜子(100)和集成在所述柜子(100)中的前处理装置、涂层形成装置和后处理装置,所述前处理装置适于对工件(10)进行清洁处理,所述涂层形成装置适于在清洁后的工件(10)上形成涂层,所述后处理装置适于对形成涂层后的工件(10)进行处理。
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