[实用新型]一种平面磁控溅射靶及镀膜装置有效
| 申请号： | 201820759400.4 | 申请日： | 2018-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN208293073U | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 刘彬 | 申请（专利权）人： | 北京实力源科技开发有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100070 北京市丰台区科技*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜用平面磁控溅射靶及镀膜装置，该平面磁控溅射靶，包括背板，背板上方设有溅射靶材，背板下方设有磁钢，磁钢产生的磁力线在溅射靶材表面形成磁场，溅射靶材包括靶材主体及压条，靶材主体和压条与背板固定连接；背板下方设有至少两组间隔设置的磁钢，相邻的两组磁钢之间形成磁场，背板上方与磁钢之间的间隔对应区域为磁感线平缓区，磁感线平缓区两侧为与磁钢相对设置的磁钢对应区，靶材主体设于磁感线平缓区内，压条设于磁钢对应区内。本申请中的一种平面磁控溅射靶及镀膜装置，原利用率低的区域更换为压条，溅射靶材的利用率更高，且可减少靶材原料的浪费，降低溅射靶材的投入成本。 | ||
| 搜索关键词： | 磁钢 背板 平面磁控溅射靶 压条 溅射靶材 镀膜装置 磁感线 靶材 平缓区 两组 磁场 磁力线 溅射靶材表面 本实用新型 靶材原料 镀膜技术 间隔设置 相对设置 镀膜 申请 | ||
【主权项】：
1.一种平面磁控溅射靶，包括背板，所述背板上方设有溅射靶材，所述背板下方设有磁钢，所述磁钢产生的磁力线在所述溅射靶材表面形成磁场，其特征在于，所述溅射靶材包括靶材主体及压条，所述靶材主体和所述压条与所述背板固定连接；所述背板下方设有至少两组间隔设置的所述磁钢，相邻的两组所述磁钢之间形成磁场，所述背板上方与所述磁钢之间的间隔对应区域为磁感线平缓区，所述磁感线平缓区两侧为与所述磁钢相对设置的磁钢对应区，所述靶材主体设于所述磁感线平缓区内，所述压条设于所述磁钢对应区内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京实力源科技开发有限责任公司，未经北京实力源科技开发有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820759400.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
