[实用新型]用于刻蚀设备的新型陶瓷环有效

专利信息
申请号: 201820760179.4 申请日: 2018-05-22
公开(公告)号: CN208284449U 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 许文泽;袁鹏华;石生宝;李明;汤介峰;潘无忌 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01J37/02 分类号: H01J37/02;H01J37/16;H01J37/065
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 栾美洁
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种用于刻蚀设备的新型陶瓷环,所述陶瓷环具有中空内腔,且内腔顶部为与冷却盘配合的卡台,所述陶瓷环的卡台底面上开有供密封圈嵌入的沟槽,该沟槽的纵截面为梯形或一优弧。本实用新型可以清楚地检查密封圈的安装情况,有效避免因密封圈在安装过程中发生脱离或部分脱落造成陶瓷环和冷却盘接触不充分进而导致腔体漏率异常以及安装困难的问题;并且可以有效解决安装过程中因密封圈发生扭曲或变形导致陶瓷环与冷却盘接触不充分的问题,同时有效避免冷却盘按压造成密封圈损坏带来的腔体漏率异常的情况。
搜索关键词: 密封圈 冷却盘 陶瓷环 本实用新型 安装过程 刻蚀设备 新型陶瓷 漏率 腔体 按压 内腔顶部 有效解决 中空内腔 嵌入的 纵截面 优弧 变形 扭曲 脱离 配合 检查
【主权项】:
1.一种用于刻蚀设备的新型陶瓷环,所述陶瓷环具有中空内腔,且内腔顶部为与冷却盘配合的卡台,其特征在于,所述陶瓷环的卡台底面上开有供密封圈嵌入的沟槽。
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