[实用新型]电场不断变化的液态金属抛光装置有效
申请号: | 201820762156.7 | 申请日: | 2018-05-21 |
公开(公告)号: | CN208375015U | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 傅昱斐;叶必卿;夏卫海 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | B24B31/10 | 分类号: | B24B31/10;B24B31/12;B24B31/14;C09G1/02 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 310014 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了电场不断变化的液态金属抛光装置,包括操作台、固定装置、叶片、第一永磁体、多个电极片、第二永磁体、液态金属抛光液、抛光腔体、抛光容器、支撑架和工作平台;所述抛光容器的内壁贴有多个电极片且每个电极片均与操作台连接并受到控制台的独立控制,多个电极片呈圆周排布在抛光容器的内壁上,电极片的高度设置在叶片的最低点与最高点之间;本实用新型采用抛光装置的内壁面安装多块电极片,呈圆周排布,操作台每次控制一对相对的电极片一个为正电极,一个为负电极,并按一个方向旋转,转无序的电场造成液态金属在抛光槽内做旋转、湍流运动,进而造成液态金属抛光液中携带的磨粒对叶片抛光区进行无序的撞击,以达到抛光的目的。 | ||
搜索关键词: | 电极片 液态金属 操作台 电场 抛光容器 抛光装置 叶片 本实用新型 圆周排布 抛光液 永磁体 内壁 控制台 独立控制 方向旋转 工作平台 固定装置 抛光腔体 湍流运动 负电极 内壁面 抛光槽 抛光区 正电极 支撑架 抛光 多块 磨粒 携带 | ||
【主权项】:
1.一种电场不断变化的液态金属抛光装置,其特征在于:包括操作台(10)、固定装置(4)、叶片(5)、第一永磁体(3)、多个电极片(2)、第二永磁体(9)、液态金属抛光液、抛光腔体(7)、抛光容器(6)、支撑架(1)和工作平台(8);所述操作台(10)和支撑架(1)均安装在工作平台(8)上,抛光容器(6)固定在支撑架(1)上,抛光容器(6)内部设置有容纳液态金属抛光液的抛光腔体(7),抛光腔体(7)的上下两端分别安装有第一永磁体(3)和第二永磁体(9),且第一永磁体(3)和第二永磁体(9)均水平平行设置,第一永磁体(3)和第二永磁体(9)相靠近的两个面的磁极相反;所述叶片(5)的上端固定在固定装置(4)上,固定装置(4)固定在抛光腔体(7)上端的第一永磁体(3)的底面上,叶片(5)整体浸没在抛光腔体(7)的液态金属抛光液中;所述抛光容器(6)的内壁贴有多个电极片(2)且每个电极片(2)均与操作台(10)连接并受到操作台的独立控制,多个电极片(2)呈圆周排布在抛光容器(6)的内壁上,电极片(2)的高度设置在叶片(5)的最低点与最高点之间。
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