[实用新型]基于力流变流体的立式轮盘抛光装置

摘要

本实用新型涉及基于力流变流体的立式轮盘抛光装置，包括底座，底座上设有抛光槽，抛光槽内设有抛光系统；所述抛光系统包括公转轴，公转轴上设有两个在公转轴转动时随公转轴一起转动的公转轮盘，两个公转轮盘之间设有至少一根可相对公转轮盘自转且在公转轮盘转动时随公转轮盘公转的自转轴，自转轴上设有工件夹具；所述公转轴由公转电机驱动；所述自转轴由自转电机驱动。本实用新型的基于力流变流体的立式轮盘抛光装置通过在抛光槽内设置特定构造的抛光系统，两个公转轮盘之间可以设置多根自转轴，每根自转轴上可以装夹多个工件，可以同时对多个工件进行高效、高加工精度抛光，且可抛光各种面型工件，适用范围广，尤其适于加工中空类工件。

主权项

1.基于力流变流体的立式轮盘抛光装置，其特征在于：包括底座(17)，底座(17)上设有抛光槽(18)，抛光槽(18)内设有抛光系统；所述抛光系统包括公转轴(19)，公转轴(19)上设有两个在公转轴(19)转动时随公转轴(19)一起转动的公转轮盘(23)，两个公转轮盘(23)之间设有至少一根可相对公转轮盘(23)自转且在公转轮盘(23)转动时随公转轮盘(23)公转的自转轴(22)，自转轴(22)上设有工件夹具(24)；所述公转轴(19)由公转电机(1)驱动；所述自转轴(22)由自转电机(4)驱动。