[实用新型]一种用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器有效

专利信息
申请号: 201820824260.4 申请日: 2018-05-30
公开(公告)号: CN208482481U 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 金建;邸思;袁海 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 广州容大专利代理事务所(普通合伙) 44326 代理人: 刘新年
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器;涉及微纳加工技术领域,该填充阻隔器为一个嵌入基底的用于分流填充量的凹槽结构,位于键合胶层填充沟槽结构时所产生的膨胀中心线的中心位置;通过引入填充阻隔器结构,以降低键合过程中压力所产生的位移,分流填充量,从而抑制顶部填充,减少通道制作时堵塞的发生。
搜索关键词: 填充 阻隔器 键合 密封堵塞 纳米通道 填充量 微纳加工技术 本实用新型 分流 凹槽结构 沟槽结构 键合过程 膨胀中心 基底 胶层 嵌入 堵塞 引入 制作
【主权项】:
1.一种用于防止纳米通道键合密封堵塞的填充阻隔器,其特征在于,该填充阻隔器为一个嵌入基底的用于分流填充量的凹槽结构,位于键合胶层填充沟槽结构时所产生的膨胀中心线的中心位置。
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