[实用新型]一种MOCVD反应器有效

专利信息
申请号: 201820837091.8 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN208218962U 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 杜志游;姜勇 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/46;C23C16/455
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 徐雯琼
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种MOCVD反应器,包括:反应腔,反应腔内下部包括位于底部的旋转轴,旋转轴上设置有基片托盘,反应腔内顶部包括一个进气装置,提供反应气体到下方的基片托盘,基片托盘下方包括一个加热器和一个分隔壁,所述分隔壁围绕所述加热器和旋转轴;一个气体导流环围绕所述进气装置和基片托盘之间的空间,所述气体导流环中包括用于供冷却液流通的管道,所述气体导流环可以上下移动;一个隔热板围绕所述基片托盘,所述隔热板遮挡在所述基片托盘和所述气体导流环之间,其中隔热板的上端位于基片托盘的上下表面之间,使得基片托盘边缘向外辐射的热量减少。
搜索关键词: 基片托盘 气体导流 反应腔 隔热板 旋转轴 加热器 进气装置 隔壁 本实用新型 冷却液流通 反应气体 上下表面 上下移动 内顶部 上端 遮挡 辐射
【主权项】:
1.一种MOCVD反应器,包括:反应腔,反应腔内包括位于底部的旋转装置,旋转装置上方设置有基片托盘,所述旋转装置支撑并驱动所述基片托盘,反应腔内顶部包括一个进气装置,提供反应气体到下方的基片托盘,基片托盘下方包括一个加热器和一个分隔壁,所述分隔壁围绕所述加热器;所述基片托盘和所述反应腔侧壁之间设置一隔热板,所述隔热板至少包围所述基片托盘的部分区域。
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