[实用新型]一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统有效
| 申请号： | 201820843084.9 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN208532468U | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 杨志宏;贾伯林;陆亚军;朱家伟;刘跃辉;王伟;施东海;顾宇盟;邢岩 | 申请（专利权）人： | 太平洋水处理工程有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布。本实用新型的优点在于：布水均匀，提高了磁介质沉淀池底部沉淀絮体的分布均匀度，降低了刮泥机局部运行负荷过高的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 配水管道 匀质 反应池 沉淀 反应组件 沉淀池 磁介质 配水器 本实用新型 混凝沉淀 配水系统 配水组件 刮泥机 配水口 配水渠 分布均匀度 数列 并列分布 出水口处 错开分布 运行负荷 组件包括 搅拌浆 布水 侧端 絮体 | ||
【主权项】：
1.一种磁介质混凝沉淀用匀质配水系统，其特征在于：包括一反应组件，所述反应组件包括一反应池，在反应池内安装有搅拌浆，所述反应池的侧端具有一配水口；一沉淀组件，所述沉淀组件包括一设置在反应池侧端的沉淀池，在沉淀池内安装有一刮泥机；一配水组件，所述配水组件包括一设置在反应组件与沉淀组件之间的配水渠，在配水渠内安装有匀质配水器，该匀质配水器位于配水口的出水口处，所述匀质配水器由数列配水管道组共同组成，每列配水管道组由若干并列分布的配水管道共同构成，且两列配水管道组中的配水管道错开分布，所述配水管道呈多边形状，各个配水管道内具有容液体流通的流道。
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