[实用新型]一种气相沉积设备有效
申请号: | 201820933195.9 | 申请日: | 2018-06-15 |
公开(公告)号: | CN208545494U | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 叶侃 | 申请(专利权)人: | 南通壹选工业设计有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226600 江苏省南通市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种气相沉积设备,其包括气体流入箱等,真空箱位于气体流入箱的一侧,等离子气体存储箱位于真空箱的一侧,工作台固定在气体流入箱、真空箱、等离子气体存储箱上,输送管道连接等离子气体存储箱,多个高温沉积箱都固定在高温沉积箱和高温成型箱的两侧,多个冷却管都固定在高温沉积箱和高温成型箱的顶部,多个显示屏都固定在高温沉积箱和高温成型箱的一侧。本实用新型通过高温有效的完成了气相沉积,提高了沉积的速度和效率,成型的速度也得到了提高,让气相的沉积变得更加方便,可以有效的降低温度,保护沉积设备更加安全,提高了沉积设备的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 沉积设备 高温沉积 等离子气体 高温成型 存储箱 流入箱 真空箱 本实用新型 沉积 气相沉积 使用寿命 输送管道 冷却管 工作台 显示屏 成型 安全 | ||
【主权项】:
1.一种气相沉积设备,其特征在于,其包括气体流入箱、真空箱、等离子气体存储箱、输送管道、流动管道、工作台、支撑架、沉积设备,真空箱位于气体流入箱的一侧,等离子气体存储箱位于真空箱的一侧,工作台固定在气体流入箱、真空箱、等离子气体存储箱上,输送管道连接等离子气体存储箱,流动管道连接输送管道与沉积设备,多个支撑架固定在工作台上,沉积设备位于多个支撑架之间,多个支撑架都连接流动管道,其中:沉积设备包括高温沉积箱、高温成型箱、散热片、冷却管、显示屏、保护涂层,高温成型箱位于高温沉积箱的一侧,多个高温沉积箱都固定在高温沉积箱和高温成型箱的两侧,多个冷却管都固定在高温沉积箱和高温成型箱的顶部,多个显示屏都固定在高温沉积箱和高温成型箱的一侧。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的