[实用新型]釉浆循环使用装置有效
| 申请号： | 201820956112.8 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN208395063U | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 黄欢 | 申请（专利权）人： | 湖南恒华电瓷电气有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 何耀煌 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种釉浆循环使用装置，它包括上釉桶、储釉桶和抽釉装置，所述上釉桶设置有上釉腔，所述上釉桶上设置有与上釉腔相连通并距离上釉腔的底壁具有一定高度的釉浆溢出槽；所述储釉桶设置有储釉腔，所述上釉桶内从釉浆溢出槽溢出的釉浆回流至储釉桶中；所述抽釉装置用于将储釉腔内的釉料抽回上釉腔中。本实用新型不仅能够使釉浆循环使用，并且能够保持上釉桶中的釉面高度不变。 | ||
| 搜索关键词： | 上釉 釉浆 循环使用装置 本实用新型 溢出槽 抽回 底壁 腔内 釉料 釉面 溢出 | ||
【主权项】：
1.一种釉浆循环使用装置，其特征在于，它包括：上釉桶(1)，所述上釉桶(1)设置有上釉腔，所述上釉桶(1)上设置有与上釉腔相连通并距离上釉腔的底壁具有一定高度的釉浆溢出槽(2)；储釉桶(6)，所述储釉桶(6)设置有储釉腔，所述上釉桶(1)内从釉浆溢出槽(2)溢出的釉浆回流至储釉桶(6)中；抽釉装置，所述抽釉装置用于将储釉腔内的釉料抽回上釉腔中。
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