[实用新型]光学薄膜及装饰件有效
| 申请号： | 201820993808.8 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN208444032U | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 洪莘;高育龙;刘立冬 | 申请（专利权）人： | 昇印光电（昆山）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光学薄膜，其包括承载层及设置于所述承载层的微纳结构层，所述微纳结构层包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理，所述微纳纹理具有停止延伸的断部，相邻所述断部之间的间隙形成开口，所述微纳结构层还包括位于断部处和/或邻近所述断部的辅助纹理。在断部处和/或邻近所述断部设置辅助纹理，可消除因微纳纹理间隙过大或因截断使间隙过大等产生的锯齿纹,从而提高光学薄膜的质量。本实用新型还揭示了一种具有上述光学薄膜的装饰件。 | ||
| 搜索关键词： | 纹理 光学薄膜 微纳结构 本实用新型 承载层 装饰件 邻近 间隙形成 锯齿纹 截断 延伸 开口 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜，其特征在于，其包括承载层及设置于所述承载层的微纳结构层，所述微纳结构层包括分布延伸且具有间隙的微纳纹理，所述微纳纹理具有停止延伸的断部，相邻所述断部之间的间隙形成开口，所述微纳结构层还包括位于断部处和/或邻近所述断部的辅助纹理。
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