[实用新型]一种离型膜有效
| 申请号： | 201821008551.2 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN208562224U | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 许显成;王亮亮;巫科;范兴宝 | 申请（专利权）人： | 四川羽玺新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/40 | 分类号： | C09J7/40 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 蒋秀清;李春芳 |
| 地址： | 642150 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种离型膜，包括基材层和离型层，所述离型层为有机硅离型剂层，所述离型层包括第一离型层和第二离型层，第一离型层的下表面与基材层的上表面贴合，第一离型层的上表面涂覆有DMPA层，DMPA层的上表面与第二离型层贴合。本实用新型将离型层设计为第一离型层和第二离型层，并在第一离型层和第二离型层之间设置DMPA层，一方面保证离型膜在胶带或保护膜的模切过程中不会脱离、翘开，另一方面，当需要剥离离型膜时，使用紫外光照射，DMPA吸收紫外光辐射能而形成自由基，从而引发有机硅离型剂再次反应，离型力降低，易于剥离，避免胶带或保护膜损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 离型层 离型膜 上表面 有机硅离型剂 保护膜 基材层 胶带 贴合 剥离 紫外光辐射能 本实用新型 紫外光照射 离型力 下表面 自由基 模切 涂覆 脱离 吸收 保证 | ||
【主权项】：
1.一种离型膜，包括基材层(1)和离型层，其特征在于，所述离型层为有机硅离型剂层，所述离型层包括第一离型层(4)和第二离型层(5)，第一离型层(4)的下表面与基材层(1)的上表面贴合，第一离型层(4)的上表面涂覆有DMPA层(3)，DMPA层(3)的上表面与第二离型层(5)贴合。
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