[实用新型]清洗系统有效
申请号: | 201821013152.5 | 申请日: | 2018-06-28 |
公开(公告)号: | CN208488646U | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 王永来;金龙 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 李亚南 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型属于显示技术领域,具体涉及一种清洗系统。本实用新型提供的清洗系统,包括至少一个清洗装置和至少一个移动装置,该移动装置包括用于夹持被清洗件的机械手,以及用于承接被清洗件在转移过程中所滴落的清洗液的承接机构。该结构的清洗系统,被清洗件在清洗装置清洗后的转移由机械手完成,在被清洗件的下方设置承接机构,用于承接被清洗件由清洗装置中移出时所滴落的清洗液,有效解决了现有清洗操作中清洗液易滴落到清洗装置上或清洗装置周围而造成环境污染的难题,降低设备的维护清洁频率,减少人力投入;同时也避免了滴落的清洗液挥发而造成空气中清洗液浓度过高发而带来的安全隐患。 | ||
搜索关键词: | 清洗装置 清洗件 清洗液 清洗系统 滴落 本实用新型 机械手 承接机构 移动装置 承接 安全隐患 降低设备 清洁频率 清洗操作 有效解决 挥发 夹持 移出 清洗 维护 | ||
【主权项】:
1.一种清洗系统,包括至少一个清洗装置和至少一个移动装置(1),其特征在于,所述移动装置(1)包括用于夹持被清洗件的机械手(11),以及用于承接所述被清洗件在转移过程中所滴落的清洗液的承接机构(12)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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