[实用新型]一种在真空环境中进行离子溅射镀膜工艺中使用的挡板有效
| 申请号： | 201821046159.7 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN208414537U | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 高富堂 | 申请（专利权）人： | 定西中庆玄和玻璃科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 743000 甘肃省定*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种在真空环境中进行离子溅射镀膜工艺中使用的挡板，包括真空镀膜腔室、等离子发射装置、辅助等离子发射装置、转盘和靶材，所述等离子发射装置设置于真空镀膜腔室的一侧，等离子发射装置的发射口对准转盘，所述转盘设置于真空镀膜腔室的内部的底面，靶材设置于转盘的下底面，其特征在于：还包括挡板，所述挡板固定于等离子发射装置内部的上顶面上，挡板正对于靶材设置，挡板正对靶材的一面固定一层凹凸不平的糙面层；辅助等离子发射装置为四个，分别固定于真空镀膜腔室的四个侧面上，辅助等离子发射装置的发射端口正对糙面层。本实用新型结构简单、靶材的利用率高、实用性强，具有广阔的市场空间。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子发射 挡板 靶材 真空镀膜腔室 转盘 本实用新型 镀膜工艺 离子溅射 真空环境 糙面层 正对 凹凸不平 发射端口 市场空间 装置设置 发射口 下底面 底面 上顶 对准 侧面 | ||
【主权项】：
1.一种在真空环境中进行离子溅射镀膜工艺中使用的挡板，包括真空镀膜腔室、等离子发射装置、辅助等离子发射装置、转盘和靶材，所述等离子发射装置设置于真空镀膜腔室的一侧，等离子发射装置的发射口对准转盘，所述转盘设置于真空镀膜腔室的内部的底面，靶材设置于转盘的下底面，其特征在于：还包括挡板，所述挡板固定于等离子发射装置内部的上顶面上，挡板正对于靶材设置，挡板正对靶材的一面固定一层凹凸不平的糙面层；辅助等离子发射装置为四个，分别固定于真空镀膜腔室的四个侧面上，辅助等离子发射装置的发射端口正对糙面层。
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