[实用新型]一种等离子体镀膜装置

摘要

本实用新型涉及物理气相沉积技术领域，且公开了一种等离子体镀膜装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有等离子蒸发镀膜机，所述等离子蒸发镀膜机的左侧固定安装有位于底座顶部的放电箱，所述底座的顶部固定安装有位于放电箱左侧的蒸发箱，所述蒸发箱的顶部固定连通有输料管，所述输料管的另一端固定连通有投料盒。该等离子体镀膜装置，通过等离子蒸发镀膜机为放电箱的内部提供放电离子，配合蒸发箱对金属物料进行高温蒸发，使得气体离子和被蒸发物质离子分别通过混合管和中间管混合进入连接管，有利于该装置对蒸发物质或其反应物进行有效沉积，从而有利于提高混合物质对镀件的轰击，提高镀件镀膜的品质。

主权项

1.一种等离子体镀膜装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有等离子蒸发镀膜机(2)，所述等离子蒸发镀膜机(2)的左侧固定安装有位于底座(1)顶部的放电箱(3)，所述底座(1)的顶部固定安装有位于放电箱(3)左侧的蒸发箱(4)，所述蒸发箱(4)的顶部固定连通有输料管(5)，所述输料管(5)的另一端固定连通有投料盒(6)，所述蒸发箱(4)的一侧固定连通有混合管(7)，所述放电箱(3)的顶部固定连通有中间管(8)，所述中间管(8)的另一端与混合管(7)的一侧固定连通，所述等离子蒸发镀膜机(2)的顶部固定安装有镀膜炉(9)，所述镀膜炉(9)的顶部螺纹套接有盖帽(10)，所述混合管(7)的另一端固定连通有连接管(11)，所述连接管(11)的另一端与镀膜炉(9)的一侧固定连通，所述盖帽(10)的底部固定安装有螺块(12)，所述螺块(12)的底部活动套接有位于镀膜炉(9)内部的镀膜伞(13)，所述镀膜炉(9)内腔的底部固定安装有托盘(14)，所述托盘(14)顶部的两侧均固定安装有卡位装置(15)。