[实用新型]一种管式PECVD炉TMA供气系统

摘要

本实用新型公开了一种管式PECVD炉TMA供气系统，其包括依次连接的氮气源、送气管路、TMA瓶、送液管路、液体流量计（LFM01）、蒸发器（CEM）、工艺气体输出管路，所述氮气源与蒸发器之间还串接混气管路和第一质量流量计（FMC01），所述送气管路中串接送气阀、送液管路中串接送液阀、混气管路中串接混气阀（PV02），控制器控制送气阀、送液阀和混气阀的启闭，并根据两流量计所测流量控制两流量计的开启度；本实用新型使传统的PECVD设备具备了做氧化铝的工艺，一站式解决ALOX加SiNX的叠层沉积，厚度<12nm时具有极好的钝化效果；操作简单，叠层沉积一步完成，仅需更改相关配方参数；采用了双TMA源瓶为系统供气，使更换空源瓶时也不影响系统供气。

主权项

1.一种管式PECVD炉TMA供气系统，其特征在于：包括依次连接的氮气源、送气管路、TMA瓶、送液管路、液体流量计（LFM01）、蒸发器（CEM）、工艺气体输出管路，所述氮气源与蒸发器之间还串接混气管路和第一质量流量计（FMC01），所述送气管路中串接送气阀、送液管路中串接送液阀、混气管路中串接混气阀（PV02），所述液体流量计和第一质量流量计连接控制器，控制器控制送气阀、送液阀和混气阀的启闭，并根据两流量计所测流量控制液体流量计和第一质量流量计的开启度。