[实用新型]一种化学气相沉积装置有效
申请号: | 201821150762.X | 申请日: | 2018-07-20 |
公开(公告)号: | CN208617977U | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 盛健 | 申请(专利权)人: | 南通盛州电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/511 |
代理公司: | 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 | 代理人: | 蒋路帆 |
地址: | 226600 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种化学气相沉积装置,属于纳米材料制造领域,一种化学气相沉积装置,包括反应箱,反应箱下端固定连接有底座板,反应箱左右两侧分别设有微波发射器和真空泵,微波发射器与底座板上端之间固定连接有支撑柱,微波反射器和反应箱左端之间固定连接有波导管,且波导管与反应箱左端相连通,真空泵与反应箱之间固定连接有连通管,且真空泵与底座板上端固定连接,连通管与反应箱和真空泵均相连通,反应箱内底端固定连接有反应台,反应台上端固定连接有基片台加热器,基片台加热器上端固定连接有基片,对通向基片的反应气体进行预先布气,反应气体可以扩散均匀后在基片上反应,有效提高基片表面沉积的薄膜均匀性。 | ||
搜索关键词: | 反应箱 真空泵 化学气相沉积装置 底座板 加热器 微波发射器 反应气体 上端固定 波导管 基片台 连通管 左端 纳米材料制造 薄膜均匀性 本实用新型 微波反射器 基片表面 左右两侧 反应台 支撑柱 上端 沉积 底端 下端 连通 扩散 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积装置,包括反应箱(1),其特征在于:所述反应箱(1)下端固定连接有底座板(2),所述反应箱(1)左右两侧分别设有微波发射器(5)和真空泵(4),所述微波发射器(5)与底座板(2)上端之间固定连接有支撑柱,所述微波发射器和反应箱(1)左端之间固定连接有波导管(6),且波导管(6)与反应箱(1)左端相连通,所述真空泵(4)与反应箱(1)之间固定连接有连通管(3),且真空泵(4)与底座板(2)上端固定连接,所述连通管(3)与反应箱(1)和真空泵(4)均相连通,所述反应箱(1)内底端固定连接有反应台(8),所述反应台(8)上端固定连接有基片台加热器(9),所述基片台加热器(9)上端固定连接有基片(10),所述基片(10)上侧设有布气板(18),所述布气板(18)与反应箱(1)内侧壁固定连接,所述布气板(18)上开设有均匀分布的第一通气孔(19),所述布气板(18)上端滑动连接有气体挡板(16),所述气体挡板(16)上开设有第二通气孔(17),且第二通气孔(17)与第一通气孔(19)相匹配,所述气体挡板(16)上侧设有导向杆(11),且导向杆(11)左右两端与反应箱(1)内侧壁固定连接,所述导向杆(11)上滑动连接有一对滑动套环(12),一对所述滑动套环(12)与气体挡板(16)之间均固定连接有连接杆(15),所述反应箱(1)右端对应气体挡板(16)处开设有相匹配的滑孔,所述气体挡板(16)右端贯穿滑孔延伸至反应箱(1)外侧,所述反应箱(1)上端固定连接有进气管(24),且进气管(24)与反应箱(1)上端相连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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