[实用新型]研磨头及化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201821164351.6 | 申请日： | 2018-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN208663469U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 沈新林;王海宽;郭松辉;吴龙江;林宗贤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B55/00;B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;陈丽丽 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种研磨头及化学机械研磨装置。所述研磨头，包括本体以及均位于所述本体朝向研磨垫一侧的吸附膜和限位环，所述限位环与所述吸附膜之间具有一间隙，还包括嵌入所述本体内的管道；所述本体朝向所述吸附膜的表面具有至少一开口，所述开口与所述管道连通，清洗液经所述管道从所述开口喷出，以清洗残留于所述间隙内的研磨液。本实用新型避免了由于研磨液结晶掉落于研磨垫表面而对晶圆造成划痕的问题，提高了化学机械研磨的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附膜 研磨头 化学机械研磨装置 本实用新型 开口 限位环 研磨垫 研磨液 半导体制造技术 化学机械研磨 管道连通 清洗液 掉落 划痕 晶圆 喷出 嵌入 清洗 残留 体内 | ||
【主权项】：
1.一种研磨头，包括本体以及均位于所述本体朝向研磨垫一侧的吸附膜和限位环，所述限位环与所述吸附膜之间具有一间隙，其特征在于，还包括嵌入所述本体内的管道；所述本体朝向所述吸附膜的表面具有至少一开口，所述开口与所述管道连通，清洗液经所述管道从所述开口喷出，以清洗残留于所述间隙内的研磨液。
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